學(xué)過初中物理的人都知道，不管什么物體都是由一個一個的分子組成的，然而，分子又是由離子組成的，在宇宙世界里面，多數(shù)物體還沒在變成分子，甚至99%的東西都是以離子或者能量的形式存在。平時有紀錄片里面看到的各種星云團，實際上主要組成物質(zhì)都是離子、暗能量、暗物質(zhì)這些東西。

　　當然在平時的生活中，平時眼睛看的到的物質(zhì)只有3種形態(tài)，固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)。當然如果借助各種儀器，就可以看到物質(zhì)其實還有很多種形態(tài)，比如離子。

　　等離子清洗機分為真空和非真空兩種類型，非真空就是大氣壓，或者常壓等離子清洗機，非真空的等離子清洗機，主要用來清洗平面的物體，像手機玻璃蓋板，或者一些小范圍的清洗。

　　等離子清洗機為什么需要引入真空環(huán)境，原因有很多,不過簡單的來講主要有有兩個原因:

　　引入真空室的氣體在壓力環(huán)境下不會電離,在充入氣體電離產(chǎn)生等離子體之前必須達到真空環(huán)境。另外，真空環(huán)境允許我們控制真空室中氣體種類，控制真空室中氣體種類對等離子處理體過程的可重復(fù)性是至關(guān)重要的。

　　要進行等離子處理產(chǎn)品,首先我們產(chǎn)生等離子體。首先，單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF)激活，這些氣體中被激活的離子加速，開始震動。這種振動“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。

　　在處理過程中,等離子體中被激活的分子和原子會發(fā)出紫外光，從而產(chǎn)生等離子體輝光。溫度控制系統(tǒng)常用于控制刻蝕速率。60-9d攝氏度溫度之間刻蝕，是室溫刻蝕速度的四倍。對溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統(tǒng)已經(jīng)預(yù)編程并集成到等離子體系統(tǒng)的軟件中間。設(shè)置保存每個等離子處理的程序能輕松復(fù)制處理過程。

　　可以通過向等離子體室中引入不同氣體，改變處理過程。常用的等離子處理器體包括02、N2,Ar,H2和CF4。世界各地的大多數(shù)實驗室，基本上都使用這五種氣體單獨或者混合使用，進行等離子體處理。

　　等離子體處理過程通常需要大約兩到十分鐘。當?shù)入x子體處理過程完成時,真空泵去除等離子室中的污染物，室里面的材料是清潔,消過毒的,可以進行粘接或下一步程序。

　　等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下形成的物質(zhì)。等離子清洗/刻蝕形成等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)定2個電極形成電磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨之氣體愈來愈稀薄，分子間距跟分子或離子的自由運作距離也愈來愈長，受磁場的作用，發(fā)生碰撞而構(gòu)成等離子體，與此同時會發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內(nèi)的空間運作，并轟擊被處置物體的表面，進而做到表層處理、清理和刻蝕的實際效果。