低溫等離子清洗機是一種新型的清洗技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。通過產生等離子體，將氣體轉變為高能物種如離子和激發態分子，然后利用其化學反應性來清洗和改善材料表面。氣體被激發到等離子態，然后在固體表面上吸附，吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子，分析產物分子以形成清潔效果。

　　主要包括以下幾個組成部分：

　　1.清洗室：清洗室是設備中的主要部件，用于容納待清洗的物體。通常由不銹鋼等材料構建，并具有真空密封設計，以確保內部氣體壓力和環境條件的控制。

　　2.等離子體源：等離子體源是產生等離子體的關鍵部件。常見的等離子體源包括射頻（RF）等離子體源和微波等離子體源。它們通過加熱和激發氣體，使氣體轉變為等離子體，并釋放出高能粒子。

　　3.氣體供給系統：氣體供給系統用于提供清洗過程所需的工作氣體。常用的工作氣體包括氮氣、氧氣、氫氣等，根據清洗要求可以選擇不同的氣體組合。

　　4.控制系統：控制系統用于監測和控制整個清洗過程。它可以實時監測氣體流量、溫度、壓力等參數，并調節等離子體源的功率和氣體供給量，以確保清洗過程的穩定性和一致性。
 

　　具有以下優點：

　　1.無溶劑清洗：使用等離子體清洗技術，不需要使用溶劑，避免了揮發性有機物的使用和排放，更環保。

　　2.清洗效果好：等離子體能夠快速氧化分解有機物，有效去除污染物和氧化層，清洗效果較好。

　　3.低溫操作：清洗過程在常溫下進行，不會對樣品造成熱損傷，適用于對熱敏感性物品的清洗。

　　4.廣泛應用：可應用于多種材料表面的清洗和改性，包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等。